泽攸科技自主研制的电子束光刻机实现关键突破，有望打破国外技术壁垒

近日，据知情人士透露，国内微纳技术领军企业泽攸科技联合松山湖材料实验室，在全自主研发的电子束光刻机整机开发与产业化项目上取得重大进展。他们成功研制出电子束光刻系统，实现了电子束光刻机整机的自主可控。这标志着国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。

业内人士表示，电子束光刻机是当前推动新材料、前沿物理、半导体、微电子、光子、量子等研究领域发展的重要装备之一。我国在这一领域长期面临技术壁垒，市场高度依赖进口。泽攸科技通过多年技术积累，已构建起完整的电子束技术体系，其产品竞争力和影响力持续提升。

据悉，2023年3月，泽攸科技与松山湖材料实验室共同投资2400万元，成立联合工程中心，目标是打造电子束技术创新基地。工程中心将深入开展电子束与新材料交叉领域的前沿技术研发，实现电子束装备的自主可控。

图为泽攸科技（ZEPTOOLS）电子束光刻机部分应用案例

业内人士透露，目前泽攸科技已在自主研制的扫描电镜基础上，完成电子束光刻机工程样机研制，并通过对测试样片的曝光生产，绘制出高分辨率复杂图形，达到先进水平。这标志着该公司电子束光刻机自主创新能力的重大提升。下一步该公司将持续完善光刻机性能，以达到批量应用要求。

值得一提的是，去年6月泽攸科技成为首家被Nature系列期刊全文报道的中国科学仪器公司，引起广泛关注。作为一家专注于原位TEM／SEM解决方案和台式SEM的公司，泽攸科技已经成功将其产品推向国内外市场，并取得了不错的成绩。泽攸科技也陆续推出了台阶仪、PECVD、低温探针台、扫描隧道显微镜等产品。

业内人士认为，泽攸科技自主研发的电子束光刻机必将加速实现量产和商业化，这不仅将大幅降低国内芯片制造成本，还将打破国外企业的技术壁垒，使我国实现电子束光刻机技术的自主可控，推动国产替代，保障国家信息安全。